EMV-Integration in den Layout-Prozess am Beispiel einer Kombination von Mikrostreifen- und Triplate-Leitungen

Roßmanith H (2006)

Publication Type: Conference contribution, Conference Contribution

Publication year: 2006

Pages Range: in Vorbereitung

Conference Proceedings Title: EMV 2006

Event location: Düsseldorf,

Authors with CRIS profile

Hans Roßmanith Professur für Optoelektronik

How to cite

APA:

Roßmanith, H. (2006). EMV-Integration in den Layout-Prozess am Beispiel einer Kombination von Mikrostreifen- und Triplate-Leitungen. In EMV 2006 (pp. in Vorbereitung). Düsseldorf,.

MLA:

Roßmanith, Hans. "EMV-Integration in den Layout-Prozess am Beispiel einer Kombination von Mikrostreifen- und Triplate-Leitungen." Proceedings of the Internationale Fachmesse und Kongress für Elektromagnetische Verträglichkeit, EMV 2006,, Düsseldorf, 2006. in Vorbereitung.

BibTeX: Download